特許
J-GLOBAL ID：200903039831630417

スルホキシド類含有廃水の処理方法

発明者：
小糸 達也

小糸 達也 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-145666
公開番号（公開出願番号）：特開平11-333473
出願日： 1998年05月27日
公開日（公表日）： 1999年12月07日
要約：
【要約】【課題】 スルホキシド類有機硫黄化合物を汚染物として含有するスルホキシド類含有廃水の処理において、高濃度スルホキシド類スルホキシド類含有廃水を効率的に処理し、且つ硫黄系悪臭物質の発生を防止する。【解決手段】 スルホキシド類含有廃水に酸化剤とCuを含む化合物を共存させて紫外線照射することにより、スルホキシド類有機硫黄化合物をスルホン類の形態にする。スルホン類は一般的な好気条件下での生物処理を施すことにより、完全に無機化される。【効果】 本法は、高濃度のスルホキシド含有廃水でも効率的にスルホン類を生成することができるため、短時間、低コストで廃水を処理することができる。また、pH調整を行う必要がなく、しかも硫黄系悪臭物質の発生を抑制することができる。
請求項（抜粋）：
スルホキシド類含有廃水に銅供給源および酸化剤を共存させ、紫外線を照射して処理することを特徴とするスルホキシド類含有廃水の処理方法。
IPC (9件)：
C02F 1/72 101 ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 3/12 ,  C02F 3/12 ZAB ,  C02F 9/00 501 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504
FI (9件)：
C02F 1/72 101 ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 3/12 V ,  C02F 3/12 ZAB N ,  C02F 9/00 501 C ,  C02F 9/00 502 N ,  C02F 9/00 502 R ,  C02F 9/00 503 C ,  C02F 9/00 504 A
引用特許：
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM