特許

J-GLOBAL ID：200903039936456030

塗布方法

発明者： 鈴木 章弘 ,  柴田 徳夫 ,  高橋 伸輔 ,  都丸 美喜男
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-283831
公開番号（公開出願番号）：特開平7-112157
出願日： 1993年10月19日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：

【要約】【目的】 非加圧型のエクストルーダにおいて塗布ムラや縦すじの発生を抑えて安定した塗布ができる塗布方法を提供する。【構成】 支持体の移動方向上流側に位置するフロントエッジ3 と、支持体の移動方向に対して下流側に位置し、しかも鋭角形状を有する先端部がフロントエッジの先端部よりも反支持体方向に後退するように形成されたバックエッジ4 とを有する非加圧型のエクストルージョン型塗布ヘッドを用いて、前記支持体の塗布面にプレコート層並びに少なくとも一種類の塗布層を湿潤状態で逐次形成する塗布方法であって、プレコート層70および該プレコート層に隣接する前記塗布層50の双方に含まれる溶剤の塗布温度における溶解パラメータの値の差を1.5以下にする。

請求項（抜粋）：

支持体の移動方向に対して上流側に位置するフロントエッジと、支持体の移動方向に対して下流側に位置し、しかも鋭角形状を有する先端部がフロントエッジの先端部よりも反支持体方向に後退するように形成されたバックエッジとを有する非加圧型のエクストルージョン型塗布ヘッドを用いて、前記支持体の塗布面にプレコート層並びに少なくとも一種類の塗布層を湿潤状態で逐次形成する塗布方法において、前記プレコート層および該プレコート層に隣接する前記塗布層の双方に含まれる溶剤の塗布温度における溶解パラメータの値の差を1.5以下にすることを特徴とする塗布方法。

IPC (3件)：

B05D 1/26 ,  G11B 5/842 ,  B05C 5/02

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-059421   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 磁気記録媒体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-018420   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 特開昭63-258672
  
• 特開2050-186966
  

審査官引用 (3件)

• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-059421   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 特開昭63-258672
  
• 磁気記録媒体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-018420   出願人：富士写真フイルム株式会社