特許
J-GLOBAL ID:200903040036960318
シリコーン組成物
発明者:
桑田 敏
桑田 敏 について
名寄せID(JGPN) 200901100370858104 ですべてを検索
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中里 森三
中里 森三 について
名寄せID(JGPN) 200901100905526750 ですべてを検索
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井口 良範
井口 良範 について
名寄せID(JGPN) 200901100901951910 ですべてを検索
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出願人/特許権者:
信越化学工業株式会社
信越化学工業株式会社 について
名寄せID(JGON) 201551000096723420 ですべてを検索
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代理人 (1件):
山本 亮一 (外1名)
公報種別:
公開公報
出願番号(国際出願番号):
特願平8-270792
公開番号(公開出願番号):
特開平10-120903
出願日:
1996年10月14日
公開日(公表日):
1998年05月12日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 皮革、合成ゴム、天然ゴム、繊維製品、頭髪、皮膚などに塗布して、それらに表面平滑性に優れたコーティング皮膜を形成することにより、それらの平滑性、柔軟性、櫛通り性、耐摩耗性などを向上させるシリコーン組成物。【解決手段】 下記(A)、(B)を主成分とするシリコーン組成物。(A)一般式R
1
a
SiO
(4-a)/2
で表わされる25°Cにおける粘度が10〜 2,000万cPであるポリオルガノシロキサン 100重量部(R
1
は炭素原子数1〜20の1価の有機基、1.95
請求項(抜粋):
下記(A)、(B)を主成分とするシリコーン組成物。(A)一般式R
1
a
SiO
(4-a)/2
で表わされる25°Cにおける粘度が10〜 2,000万cPであるポリオルガノシロキサン 100重量部(R
1
は炭素原子数1〜20の1価の有機基、1.95
IPC (3件):
C08L 83/04
, A61K 7/00
, A61K 7/06
FI (3件):
C08L 83/04
, A61K 7/00 J
, A61K 7/06
引用特許:
審査官引用 (7件)
特開昭63-256696
毛髪化粧料
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願平4-115919
出願人:
東芝シリコーン株式会社
化粧料
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願平6-143880
出願人:
株式会社資生堂
化粧料
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願平3-323656
出願人:
株式会社資生堂
シリコーン微粒子およびその製造方法
公報種別:
公開公報
出願番号:
特願平5-338028
出願人:
信越化学工業株式会社
特開昭63-256696
特開昭63-256696
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