特許
J-GLOBAL ID：200903040152954074
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-018301
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204429
出願日： 1998年01月16日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：
【要約】【課題】 リフトピンを支持するピンベースをその両側で(いわゆる両持ちタイプ)一対の昇降機構により昇降する際、ピンベース全体の高さ合わせを行ってピンベースの水平度を所定精度内で容易に出すこと。【解決手段】 ピンベース38全体が昇降した際、第1検出器58aによりピンベース38の一側が所定位置に到達したことが検出されて、ピンベース38全体の昇降が停止され、この後、ピンベース38全体が惰性により昇降して停止するまでの間に、第2検出器58bによりピンベース38の他側が所定位置に到達又は通過したか否かが検出されて、ピンベース38の他側の位置が調整されている。
請求項（抜粋）：
一対の昇降機構により両側で各々昇降されるピンベースに支持された複数のリフトピンにより、搬入された基板を受け取って載置台に載置し、処理終了後、基板を搬出位置に持ち上げる基板処理装置であって、前記ピンベース全体が昇降した際、ピンベースの一側が所定位置に到達したことを検出して、ピンベース全体の昇降を停止させるための第1検出器と、この後、ピンベース全体が惰性により昇降して停止するまでの間に、ピンベースの他側が前記所定位置に到達または通過したか否かを検出して、ピンベースの他側の位置を調整するための第2検出器とを具備することを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 567
, H01L 21/68 A
, H01L 21/30 571
