特許
J-GLOBAL ID:200903040194889205
ポリマ材料を出発材にした導波路の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
絹谷 信雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-250373
公開番号(公開出願番号):特開2003-057478
出願日: 2001年08月21日
公開日(公表日): 2003年02月26日
要約:
【要約】【課題】 ガラス導波路並の特性を有すると共に、超低コストで得ることができる新規なポリマ材料を出発材にした導波路の製造方法の提供。【解決手段】 基板1上の低屈折率層2上にポリシラン化合物のポリマ層3を形成し、このポリマ層3を紫外線露光した後、露光された領域を除去して高屈折率コアパターン5を形成し、次いでそのコアパターン5を350°C以上の温度で熱処理して無機化し、このコアパターン6上に低屈折率の上部クラッド層7を被覆形成する。これによって、ポリマ材料固有の吸収基が無くなってガラス導波路並の低損失化が達成できると共に、超低コストで得ることができる。
請求項(抜粋):
少なくとも350°C以上の耐熱温度を有する基板の表面に形成された低屈折率層上にポリシラン化合物のポリマ層を形成し、このポリマ層上に所望の光伝搬層パターンの描かれたフォトマスクを置いてその上から紫外線を照射してそのポリマ層を露光した後、露光された領域をアルカリ現像により除去して略矩形断面形状の高屈折率コアパターンを形成し、次いでそのコアパターンを350°Cよりも高い温度で熱処理して無機化し、その後、このコアパターン上に低屈折率の上部クラッド層を被覆形成するようにしたことを特徴とするポリマ材料を出発材にした導波路の製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
Fターム (6件):
2H047KA04
, 2H047PA22
, 2H047PA24
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047TA36
引用特許:
前のページに戻る