特許

J-GLOBAL ID：200903040204548606

パターン形成方法

発明者： 松岡 晃次
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-269674
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115805
出願日： 1995年10月18日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：

【要約】【課題】 ライン形状のレジストのパターニングを行なうにあたって、露光時の光近接効果による線幅ばらつきを抑制する。【解決手段】 特定の変形照明を用いマスクを垂直に照明する成分を少なくし、光のコントラストを向上し、光近接効果を抑制する。具体的には、縮小系露光装置において、照明系21の光の出射側に遮光板を形成し、遮光板の周縁部にのみ光透過領域を形成する。

請求項（抜粋）：

基板上にレジストを塗布する工程と、前記レジストを露光するとともに現像を行って前記基板上に複数本のライン状のレジストを形成する工程とを有するパターン形成方法であって、前記露光を行う際に用いる露光装置の照明系における光の干渉性を示すコヒーレントファクタを0.70以上0.80以下に設定することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 515 E ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-343601   出願人：株式会社ニコン
• 照明光学装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-047409   出願人：株式会社ニコン
• 特開昭61-091662