特許
J-GLOBAL ID：200903070586316986

投影露光装置

発明者：
牛田 一雄

牛田 一雄 について

, 
亀山 雅臣

亀山 雅臣 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-343601
公開番号（公開出願番号）：特開平5-175101
出願日： 1991年12月25日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：
【要約】【目的】投影光学系の焦点深度を向上させることにより、実用上におけるレチクル上の回路パターンをより高解像度でウエハに忠実に転写できる投影露光装置の提供にある。【構成】照明光学系からの露光光によって投影原版上のパターンを投影光学系を介して基板上に投影露光する投影露光装置において、照明光学系内に輪帯状の2次光源を形成する輪帯光源形成手段を設け、この輪帯光源形成手段の内径及び外径をそれぞれをd1 ,d2 とするとき、d1 /d2 の比率を1/3乃至2/3となるように構成した。
請求項（抜粋）：
照明光学系からの露光光によって投影原版上のパターンを投影光学系を介して基板上に投影露光する投影露光装置において、前記照明光学系は、露光光を供給する光源手段と、該光源手段からの光によって輪帯状の2次光源を形成する輪帯光源形成手段と、該輪帯光源形成手段からの光束を前記投影原版上に集光するコンデンサーレンズとを有し、前記輪帯状の2次光源の内径をd1 、前記輪帯状の2次光源の外径をd2 とするとき、以下の条件を満足することを特徴とする投影露光装置。1/3≦d1 /d2 ≦2/3
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521
引用特許：
審査官引用 (4件)
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