特許

J-GLOBAL ID：200903040216422632

縦型熱処理装置

発明者： 北山 博文 ,  松島 範昭
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン東北株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-117688
公開番号（公開出願番号）：特開平7-302767
出願日： 1994年05月06日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：

【要約】【目的】 被処理体の汚染防止を図ると共に、処理ガスの流れを均一にして製品歩留まりの向上を図り、かつ、反応容器の内部容器のクリーニング等のメンテナンス性の向上を図る。【構成】 ヒータ5内に配置される反応容器1を、下方が開口する有底筒状の外部容器2と、この外部容器2内にシール機構を介して着脱可能に配置されてウエハWを収容する下方が開口する有底筒状の内部容器3とで構成し、内部容器3の上部における周方向に複数の処理ガス連通孔20を設ける。これにより、内部容器3の下部に設けられた導入口11から内部容器3内に導入される処理ガスを、処理ガス連通孔20を分散させて内部容器3と外部容器2間を介して外部容器2の下部に設けられた排気口13から外部に排出することができ、処理ガスの流れを均一にすることができる。

請求項（抜粋）：

加熱手段内に配置される反応容器を、下方が開口する外部容器と、この外部容器内に配置されて被処理体を収容する内部容器とで構成し、上記内部容器の下部に設けられた導入口から内部容器内に導入される処理ガスを、内部容器と外部容器間を介して外部容器の下部に設けられた排気口から外部に排出するようにした縦型熱処理装置において、上記内部容器を下方が開口する有底筒状に形成すると共に、この内部容器の上部における周方向に複数の処理ガス連通孔を設けたことを特徴とする縦型熱処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/22 511 ,  H01L 21/31

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 縦型CVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-057620   出願人：富士通株式会社, 株式会社九州富士通エレクトロニクス