特許

J-GLOBAL ID：200903040219762086

膜厚測定方法及び装置、並びにそれを用いたエッチング方法及び装置

発明者： 中嶋 節男 ,  菅原 康博
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
代理人 (2件)： 渡辺 昇 ,  原田 三十義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-222156
公開番号（公開出願番号）：特開2009-053134
出願日： 2007年08月29日
公開日（公表日）： 2009年03月12日
要約：

【課題】吸光性膜の厚さを広範囲にわたって干渉の影響を受けることなく解析可能な方法を提供する。【解決手段】ガラスからなる透明基材90にアモルファスシリコンからなる吸光性膜91が被膜されている。この吸光性膜91に照射部10Xから検査光L1を照射し、反射検出部10Yで反射率(R)を検出するとともに、透過検出部20Xで透過率(T)を検出する。これら検出結果からX=T/(1-R)を算出し、その算出値と、記憶部33に格納した膜厚とXとの関係データとに基づいて、吸光性膜91の膜厚を解析する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

透明な基材に形成された吸光性の膜の厚さを測定する方法であって、 前記吸光性膜に検査光を照射して反射する光と透過する光を検出し、この検出結果から前記検査光のうち吸光性膜に吸収される光量と透過する光量の和に対する透過する光量の割合を求め、この割合に基づいて前記吸光性膜の厚さを解析することを特徴とする膜厚測定方法。

IPC (2件)：

G01B 11/06 ,  H01L 21/66

FI (2件)：

G01B11/06 101Z ,  H01L21/66 P

Fターム (32件)：

2F065AA30 ,  2F065BB01 ,  2F065BB15 ,  2F065BB23 ,  2F065CC25 ,  2F065CC31 ,  2F065FF44 ,  2F065FF46 ,  2F065GG06 ,  2F065GG07 ,  2F065GG08 ,  2F065GG22 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ09 ,  2F065LL03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ26 ,  4M106AA10 ,  4M106BA04 ,  4M106BA12 ,  4M106CA48 ,  4M106DH03 ,  4M106DH12 ,  4M106DH55 ,  4M106DJ17 ,  4M106DJ20

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 薄膜の膜厚測定方法、多結晶半導体薄膜の形成方法、半導体デバイスの製造方法、およびその製造装置、並びに画像表示装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-124830   出願人：株式会社日立ディスプレイズ