特許

J-GLOBAL ID：200903040351564110

基板処置装置および基板処理方法

発明者： 足立 秀喜
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-082937
公開番号（公開出願番号）：特開2002-280342
出願日： 2001年03月22日
公開日（公表日）： 2002年09月27日
要約：

【要約】【課題】 基板を回転させながら基板の下面へ処理液を供給して基板を処理する場合に、基板の上面側への処理液ミストの巻き込みや処理液の回り込みを確実に防止できる装置を提供する。【解決手段】 回転ベース部材10の支持部材12を、基板Wが水平方向へ移動せず回転ベース部材に対して回転しないように基板に係合するとともに上下方向への基板の移動を許容する構成とし、回転ベース部材の上方に、下面が回転ベース部材上の基板と平行な平面に形成され基板の上面側へ全周にわたって下向きかつ外向きに気体を吹き出してベルヌーイ効果により基板を近接状態で吸着する近接吸着板34を備えた。

請求項（抜粋）：

基板を水平姿勢で支持する支持部材を有し、鉛直軸回りに回転自在に支持された回転ベース部材と、この回転ベース部材を回転させる回転手段と、前記回転ベース部材上に支持されて回転する基板の下面へ処理液を供給する処理液供給手段と、を備えた基板処理装置において、前記支持部材が、基板が水平方向へ移動しないようにかつ前記回転ベース部材に対して回転しないように基板に係合するとともに上下方向への基板の移動を許容するものであり、前記回転ベース部材の上方に、下面が回転ベース部材上の基板と平行な平面に形成され前記支持部材によって支持された基板の上面側へ全周にわたって下向きかつ外向きに気体を吹き出してベルヌーイ効果により基板を近接状態で吸着する近接吸着手段を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 648 ,  B08B 3/02 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 648 K ,  B08B 3/02 B ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 A

Fターム (13件)：

2H096AA25 ,  2H096AA30 ,  2H096GA29 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB33 ,  3B201BB32 ,  3B201BB92 ,  3B201BB98 ,  3B201BB99 ,  5F046LA05 ,  5F046LA07 ,  5F046LA11

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 試料保持方法及び試料表面の流体処理方法並びにそれらの装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-106640   出願人：株式会社日立製作所