特許
J-GLOBAL ID：200903040372202871
静電チャックの表面研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下田 容一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-031846
公開番号（公開出願番号）：特開平7-221168
出願日： 1994年02月02日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：
【要約】【目的】 誘電体層表面に砥粒によるスクラッチが生じることがないように研磨する。【構成】 仕上げ研磨は、剛性の高い研磨盤5に、誘電体層2を構成する材料よりも軟らかい砥粒、例えばSiO2砥粒を含む研磨液6を供給しながら研磨する。
請求項（抜粋）：
静電チャックの誘電体層表面を誘電体層よりも軟らかい砥粒で研磨することで局部的に高温・高圧状態として誘電体層を構成する物質と砥粒を構成する物質との反応物を化学的に生成せしめ、少なくともこの反応物またはこの反応物を分解した後に得られる生成物を機械的に誘電体層表面から除去するようにしたことを特徴とする静電チャックの表面研磨方法。
IPC (5件)：
H01L 21/68
, B24B 37/04
, H01L 21/3065
, H01L 21/304 321
, H02N 13/00
