特許
J-GLOBAL ID:200903040419541998
増強ダイナミックレンジによる欠陥検出
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
長谷川 芳樹
, 山田 行一
, 鈴木 康仁
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-531154
公開番号(公開出願番号):特表2005-524827
出願日: 2002年09月24日
公開日(公表日): 2005年08月18日
要約:
光学検査用の装置は、サンプル上で放射スポットを走査するように適合され、それにより、上記放射スポットから放射線が散乱する光放射線源を有する。検出システムは、互いに光学的に結合されて散乱放射線を受けるとともにそれに応じて第1および第2の出力をそれぞれ形成する少なくとも第1および第2の検出器を備えるとともに、上記第1の検出器が上記第2の検出器よりも大きな感度をもって散乱放射線における変化を検出し、上記第2の検出器が散乱放射線の強度を上記第1の検出器よりも高く飽和するように構成されている。信号プロセッサは、上記第1および第2の出力を受けるとともに、この出力に応じてサンプル上の欠陥の場所を決定するように結合されている。
請求項(抜粋):
サンプル上で放射スポットを走査するように適合され、これにより、前記放射スポットから放射線が散乱する光放射線源と、
互いに光学的に結合されて散乱放射線を受けるとともにそれに応じて第1および第2の出力をそれぞれ生成する少なくとも第1および第2の検出器を備える検出システムであって、前記第1の検出器が前記第2の検出器よりも大きな感度をもって散乱放射線における変化を検出し、前記第2の検出器が散乱放射線の強度を前記第1の検出器よりも高く飽和するように構成された前記検出システムと、
前記第1および第2の出力を受けるとともに、この出力に応じてサンプル上の欠陥の場所を決定するように結合された信号プロセッサと、
を備える光学検査用の装置。
IPC (2件):
FI (2件):
G01N21/956 A
, H01L21/66 J
Fターム (19件):
2G051AA51
, 2G051AB07
, 2G051BA10
, 2G051BB05
, 2G051CA02
, 2G051CA07
, 2G051CB05
, 2G051CC07
, 2G051CC11
, 2G051EA12
, 2G051EA27
, 4M106AA01
, 4M106BA04
, 4M106CA38
, 4M106CA50
, 4M106DB02
, 4M106DB11
, 4M106DB15
, 4M106DJ11
引用特許:
審査官引用 (3件)
-
欠陥検査装置およびその方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-206078
出願人:株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
-
特開平2-078936
-
特許第6271916号
前のページに戻る