特許

J-GLOBAL ID：200903040482067317

静電浮遊炉

発明者： 湯澤 眞理 ,  築島 千尋 ,  土屋 美和
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社 ,  宇宙開発事業団
代理人 (1件)： 宮田 金雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-043063
公開番号（公開出願番号）：特開平11-241888
出願日： 1998年02月25日
公開日（公表日）： 1999年09月07日
要約：

【要約】【課題】 浮遊加熱中の材料の回転を、任意の方向で制御することが可能な、静電浮遊炉の制御方式を得る。【解決手段】 照射位置可動型加熱用レーザ16を付加し、浮遊している材料11の回転に合わせて、加熱用レーザ16の照射位置を調整することにより、任意の方向に遇力を与え、これによって材料11の任意の方向の回転を制御する。

請求項（抜粋）：

材料製造を行うための容器であるチャンバと、このチャンバ内を製造条件に合わせてガスを充填または真空引きするための雰囲気制御装置と、この製造に用いる材料を帯電させるための紫外線源と、この帯電した材料を静電力による反発力で空中に浮かせかつ材料の回転を制御するために電界を発生させる非平板リング型上下電極と、これらの全ての電極構成部に位相差をつけて電圧を供給できる電極電圧制御装置と、材料の浮遊位置を検出し制御するための位置検出制御装置と、上記電極により空中に浮遊している材料を加熱し溶融させるための加熱源と、この加熱された材料の温度を測定する温度計測装置と、上記材料の表面の様子や回転の状況を観察するためのビデオ観察装置と、上記材料を把持した状態で移動し上記電極の間に到達したときに材料を解放する材料放出装置とを備えたことを特徴とする、静電浮遊炉。