特許

J-GLOBAL ID：200903040505080391

ビーム整形光学系

発明者： 丸山 晃一 ,  上窪 淳二
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 松岡 修平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-137795
公開番号（公開出願番号）：特開平10-073761
出願日： 1997年05月12日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：

【要約】【課題】 従来のプリズムを用いたビーム整形光学系は、入射角度の違いによる角倍率の変化が比較的大きいため、多点発光半導体レーザーを用いた装置の光学系に適用すると、半導体レーザー上での発光点が等間隔で形成されている場合にも、媒体上に形成されるスポットの位置間隔が不均等になる。【解決手段】 2つの楔型プリズム31,32を有し、プリズムの面毎の角倍率の変化率αjの総和Σαjの絶対値が、0.020より小さくなるようにプリズムの面への入射角度を決定づけたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

主断面が平行な2つの楔型プリズムを有するビーム整形光学系であって、前記プリズムの各光束透過面に対する基準光線の入射角度が、以下の条件(1)を満たすよう設定されていることを特徴とするビーム整形光学系。【数1】

IPC (3件)：

G02B 13/00 ,  G02B 5/04 ,  G02B 19/00

FI (3件)：

G02B 13/00 ,  G02B 5/04 F ,  G02B 19/00

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 光記録用レンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-167567   出願人：旭光学工業株式会社
• 特開平2-257115
  
• ケプラー式変倍ファインダー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-284992   出願人：株式会社ニコン