特許
J-GLOBAL ID:200903040559752930

レーザ回折・散乱式粒度分布測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 河▲崎▼ 眞樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-316031
公開番号(公開出願番号):特開2001-133385
出願日: 1999年11月05日
公開日(公表日): 2001年05月18日
要約:
【要約】【課題】 青色の粒子をも含めて、サブ・サブミクロンオーダーから数百、数千μmに及ぶ広い範囲にわたる連続的な粒度分布を正確に測定することのできるレーザ回折・散乱式粒度分布測定装置を提供する。【解決手段】 被測定粒子群Pに照射する照射光学系の光源を、出力波長300〜500μmの半導体レーザ1とすることにより、測定可能な粒子径範囲の下限を下げ、かつ、単一波長を用い、単一の測定原理に基づく測定により、不連続点のない粒度分布の測定を可能とする。
請求項(抜粋):
分散状態の粒子群にレーザ光を照射する照射光学系と、その照射光学系からのレーザ光の粒子群による回折・散乱光を受光して、その空間強度分布を計測するための測定光学系と、その測定光学系による測定結果から粒子群の粒度分布を算出する演算部を備えたレーザ回折・散乱式粒度分布測定装置において、上記照射光学系の光源が、出力光波長300〜500nmの範囲内の半導体レーザであることを特徴とするレーザ回折・散乱式粒度分布測定装置。
引用特許:
審査官引用 (4件)
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