特許
J-GLOBAL ID：200903040570750698
測定装置、露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-009879
公開番号（公開出願番号）：特開2006-332586
出願日： 2006年01月18日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：
【課題】長時間を要することなく、安価、且つ、高精度に被検光学系の波面を測定することが可能な測定装置を提供する。【解決手段】被検光学系の物体面に配置され、測定光から球面波を生成するための複数のピンホールを有するピンホールマスクと、前記ピンホールマスク及び前記被検光学系を経た後の前記測定光を分割する回折格子とを有し、前記回折格子の格子ピッチをPg、前記測定光の波長をλ、整数をmとすると、前記回折格子と前記被検光学系の像面との距離Lgは、Lg=m・Pg2/λを満足し、前記回折格子が分割した前記測定光を干渉させることにより形成される干渉パターンから前記被検光学系の波面収差を算出することを特徴とする測定装置を提供する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被検光学系の物体面に配置され、測定光から球面波を生成するための複数のピンホールを有するピンホールマスクと、
前記ピンホールマスク及び前記被検光学系を経た後の前記測定光を分割する回折格子とを有し、
前記回折格子の格子ピッチをPg、前記測定光の波長をλ、整数をmとすると、前記回折格子と前記被検光学系の像面との距離Lgは、Lg=m・Pg2/λを満足し、
前記回折格子が分割した前記測定光を干渉させることにより形成される干渉パターンから前記被検光学系の波面収差を算出することを特徴とする測定装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L21/30 516A
, H01L21/30 531A
, G01M11/02 B
2G086HH06
, 5F046CB01
, 5F046CB02
, 5F046CB13
, 5F046CB17
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046GA12
, 5F046GA14
, 5F046GB01
