波面測定システム、EUVフォトリソグラフィシステム、及び光学系の波面を測定する方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-008393
公開番号（公開出願番号）：特開2004-219423
出願日： 2004年01月15日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：

【課題】本発明の課題は、ウェーハの作成と露光の間、波面の質を測定するためにフォトリソグラフィツールを分解せずに、フォトリソグラフィツール内で波面の質が測定できるようにすることである。【解決手段】上記課題は、本発明にしたがって、電磁放射源と、電磁放射を均一に対物面に向ける照明系と、対物面に配置された電磁放射を調整する第1の格子と、前記第1の格子の像を焦点面に投影する投影光学系と、焦点面に置かれた第2の格子と、前記第2の格子の背後に配置された検出器とを有し、前記検出器が前記第2の格子により形成された干渉縞パターンを受け取るように構成された波面測定システムにより解決される。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

波面測定システムにおいて、電磁放射源と、電磁放射を均一に対物面に向ける照明系と、対物面に配置された、電磁放射を調整する第1の格子と、前記第1の格子の像を焦点面に投影する投影光学系と、焦点面に置かれた第2の格子と、前記第2の格子の背後に配置された検出器とを有し、前記検出器は前記第2の格子により形成された干渉縞パターンを受け取る、ことを特徴とする波面測定システム。

IPC (5件)：

G01M11/02 , G01B11/24 , G01J9/02 , G03F7/20 , H01L21/027

FI (5件)：

G01M11/02 B , G01J9/02 , G03F7/20 503 , G01B11/24 D , H01L21/30 531A

Fターム (18件)：

2F065AA51 , 2F065BB05 , 2F065BB22 , 2F065CC22 , 2F065DD06 , 2F065FF04 , 2F065FF51 , 2F065FF53 , 2F065GG12 , 2F065GG22 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065LL42 , 2F065UU08 , 2G086HH06 , 2H097CA15 , 2H097LA10 , 5F046GA14

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-134538
平版投射装置、回折モジュール、センサモジュールおよび波面収差を測定する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-034079 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
特開昭58-016216

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