レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井桁貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-208302
公開番号（公開出願番号）：特開平5-045879
出願日： 1991年08月20日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：

【要約】【目的】本発明は、新規なレジスト組成物に関し、新規な架橋剤を用いることにより、解像性に優れたネガ型レジストの提供とこれを用いた微細で耐エッチング性にすぐれたネガ型レジストパタ-ンの形成方法の提供をその目的とする。【構成】アルカリ可溶性樹脂と酸発生剤と一般式【化1】(Rは炭素数1〜10のアルキル基,nは1〜20までの整数)で示されるメチル化メチロ-ルメラミンのオリゴマからなる架橋剤とを含むように構成する。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂と酸発生剤と一般式【化1】(Rは炭素数1〜10のアルキル基,nは1〜20までの整数)で示されるメチル化メチロ-ルメラミンのオリゴマからなる架橋剤とを含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 505 , G03F 7/004 503 , G03F 7/26 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 R , H01L 21/30 361

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-023355
特開平2-217855
特開昭63-097948

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