特許

J-GLOBAL ID：200903040620278006

ポジ型レジスト組成物

発明者： 大森 克実 ,  湯川 博人 ,  山崎 晃義 ,  谷 和夫 ,  木下 洋平 ,  山田 知孝
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-154908
公開番号（公開出願番号）：特開2000-347405
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】 露光前後のアルカリに対する溶解性の変化が大きく、高コントラストであって、解像度及び焦点深度幅が良好なKrFエキシマレーザー用ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)(イ)ヒドロキシ(α-メチル)スチレン単位、(ロ)スチレン単位及び(ハ)一般式【化1】(R1は水素原子又はメチル基、R2は低級アルキル基)で表わされる単位を含む共重合体からなる、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂及び(B)酸発生剤を含有してなるポジ型レジスト組成物とする。

請求項（抜粋）：

(A)(イ)ヒドロキシスチレン単位又はヒドロキシ-α-メチルスチレン単位、(ロ)スチレン単位及び(ハ)一般式【化1】(式中のR1は水素原子又はメチル基、R2は低級アルキル基である)で表わされる単位を含む共重合体からなる、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂及び(B)放射線の照射により酸を発生する化合物を含有してなるポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (18件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA11 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025CC01 ,  2H025CC20 ,  2H025FA15

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-082407   出願人：富士写真フイルム株式会社