特許
J-GLOBAL ID：200903089336729420

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者：
丹 史郎

丹 史郎 について

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藤森 亨

藤森 亨 について

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青合 利明

青合 利明 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-082407
公開番号（公開出願番号）：特開平11-344808
出願日： 1999年03月25日
公開日（公表日）： 1999年12月14日
要約：
【要約】【課題】 高解像力を有し、孤立パターンの飛びの防止を改良し、また、現像残渣(スカム)および定在波が生じなく、経時的寸法安定性も良い、優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 特定の特定の構造単位を少なくとも有する共重合体Aと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び溶剤を少なくとも含有するポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(a)下記一般式(I)、(II)及び(III) で表される構造単位を少なくとも有する共重合体Aと、(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(I)〜(III) 中、R1 及びR2 は、互いに独立して水素原子またはメチル基、R3 は置換されてもよい3級アルキル基もしくは置換されてもよい3級シクロアルキル基を表す。Xは2価の有機残基を表す。
IPC (5件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F212/04 ,  C08F220/18 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F212/04 ,  C08F220/18 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (5件)
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