特許
J-GLOBAL ID:200903040662359910

研磨用キャリア及び研磨方法並びに情報記録媒体用基板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-093944
公開番号(公開出願番号):特開2000-288922
出願日: 1999年03月31日
公開日(公表日): 2000年10月17日
要約:
【要約】【課題】 ポリッシング加工等において被研磨体の端面(外周側面)に傷等を発生させるおそれのない研磨用キャリア及び該研磨用キャリアを用いた研磨方法並びに該研磨方法を用いた情報記録媒体用基板の製造方法を提供する。【解決手段】 被研磨体たる磁気記録媒体用ガラス基板4を保持する被研磨体保持孔2a〜2gを有する研磨用キャリア1において、少なくとも前記被研磨体と接触する前記保持孔の内周部分を、硬度100以下(Asker-C)の材料できる構成した。
請求項(抜粋):
被研磨体を保持する保持孔を有する研磨用キャリアにおいて、少なくとも前記被研磨体と接触する前記保持孔の内周部分が、硬度100以下(Asker-C)の材料からなることを特徴とする研磨用キャリア。
IPC (4件):
B24B 37/04 ,  B24B 7/24 ,  G11B 5/84 ,  G11B 7/26
FI (4件):
B24B 37/04 C ,  B24B 7/24 A ,  G11B 5/84 A ,  G11B 7/26
Fターム (20件):
3C043CC07 ,  3C043CC11 ,  3C043CC13 ,  3C043DD05 ,  3C043EE04 ,  3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA18 ,  3C058AB08 ,  3C058CB02 ,  3C058CB10 ,  3C058DA06 ,  3C058DA18 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112KK01 ,  5D121AA02 ,  5D121GG22 ,  5D121JJ02
引用特許:
審査官引用 (4件)
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