特許

J-GLOBAL ID：200903040662783983

基板処理方法及び基板処理装置

発明者： 宮 勝彦 ,  泉 昭
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-188491
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021841
出願日： 1998年07月03日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】 処理液のミストの基板への再付着、乾燥処理のスループットの低下、ウォーターマークの発生などを防止する。【解決手段】 スピンチャック1を液処理高さWHに配置して、スピンチャック1に保持された基板Wの周囲にカップ2を配置させた状態で、基板Wを保持したスピンチャック1を回転させつつノズル3や処理液供給口17aから処理液を基板Wに供給して処理液による液処理を行う。基板Wへの処理液の供給を停止した後、スピンチャック1を乾燥処理高さDHに上昇させてカップ2の上端2aよりも上方の位置に基板Wを配置させ、その状態で基板Wを保持したスピンチャック1を高速回転させて基板Wを乾燥する。

請求項（抜粋）：

基板に対して所定の処理を行う基板処理方法において、基板から飛散される処理液を受け止めて回収する回収部材を基板の周囲に配置させた状態で、基板を回転させつつ処理液を基板に供給して処理液による液処理を行う液処理工程と、基板への処理液の供給を停止した後、基板と前記回収部材とを相対的に昇降させて前記回収部材の上端よりも上方の位置に基板を配置させ、その状態で基板を回転させて基板を乾燥する乾燥工程と、を含むことを特徴とする基板処理方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 643 ,  B08B 3/04 ,  F26B 5/08

FI (4件)：

H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 643 A ,  B08B 3/04 A ,  F26B 5/08

Fターム (29件)：

3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB22 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CC13 ,  3L113AA03 ,  3L113AB08 ,  3L113AC45 ,  3L113AC46 ,  3L113AC48 ,  3L113AC54 ,  3L113AC57 ,  3L113AC63 ,  3L113AC64 ,  3L113AC72 ,  3L113AC73 ,  3L113AC76 ,  3L113AC78 ,  3L113AC79 ,  3L113AC86 ,  3L113AC90 ,  3L113BA34 ,  3L113CA06 ,  3L113CA15 ,  3L113DA04 ,  3L113DA10 ,  3L113DA24

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-155904   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 回転塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-090471   出願人：新日本製鐵株式会社