特許

J-GLOBAL ID：200903040671552579

半導体製造装置およびそれを用いた半導体製造方法

発明者： 福岡 裕介 ,  岸本 克史
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2005001253
公開番号（公開出願番号）：WO2005-074020
出願日： 2005年01月28日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：

半導体装置の製造に必要な複数の処理部に対応する複数の真空槽と、各真空槽に接続された排気装置と、各真空槽の底に設けられ複数のガス噴出孔を有する板状のガイドプレートと、ガス噴出孔へガスを供給するガス供給源とを備え、複数の真空槽はシャッターを隔てて互いに隣接し、隣接する2つの真空槽の一方は、所定の処理を施すべき基板を搭載するためにガイドプレート上に載置されるトレーと、トレーを一方の真空槽から他方の真空槽へガイドプレートに沿って移動させる搬送アームを有する搬送機能部と、制御機能部とを具備し、この制御機能部が、シャッターを開放して隣接する2つの真空槽を連通し、一方および他方の真空槽のガイドプレートのガス噴出孔からガスを噴出し、噴出したガスによって浮上状態にある一方の真空槽のトレーを、搬送アームにて一方の真空槽のガイドプレート上から他方の真空槽のガイドプレート上へガイドプレートに沿って移動させるように制御することを特徴とする半導体製造装置。

請求項（抜粋）：

半導体装置の製造に必要な複数の処理部に対応する複数の真空槽と、各真空槽に接続された排気装置と、各真空槽の底に設けられ複数のガス噴出孔を有する板状のガイドプレートと、ガス噴出孔へガスを供給するガス供給源とを備え、複数の真空槽はシャッターを隔てて互いに隣接し、隣接する2つの真空槽の一方は、所定の処理を施すべき基板を搭載するためにガイドプレート上に載置されるトレーと、トレーを一方の真空槽から他方の真空槽へガイドプレートに沿って移動させる搬送アームを有する搬送機能部と、制御機能部とを具備し、この制御機能部が、シャッターを開放して隣接する2つの真空槽を連通し、一方および他方の真空槽のガイドプレートのガス噴出孔からガスを噴出し、噴出したガスによって浮上状態にある一方の真空槽のトレーを、搬送アームにて一方の真空槽のガイドプレート上から他方の真空槽のガイドプレート上へガイドプレートに沿って移動させるように制御することを特徴とする半導体製造装置。

IPC (3件)：

H01L 21/677 ,  B65G 49/07 ,  B01J 3/00

FI (4件)：

H01L21/68 A ,  B65G49/07 J ,  B65G49/07 L ,  B01J3/00 J

Fターム (10件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA12 ,  5F031FA01 ,  5F031FA03 ,  5F031FA07 ,  5F031GA62 ,  5F031NA04 ,  5F031NA09 ,  5F031PA30

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平2-207546号公報
  
• マルチチャンバ型真空処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-041174   出願人：日本真空技術株式会社