特許
J-GLOBAL ID：200903040687973981
真空蒸着装置及び真空蒸着方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田中 浩 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-198290
公開番号（公開出願番号）：特開平10-025563
出願日： 1996年07月08日
公開日（公表日）： 1998年01月27日
要約：
【要約】【課題】 熱伝導率の低い物質や、蒸発温度(沸点)の低い物質等を、安定して加熱し、蒸発させる。【解決手段】 真空槽1内に、蒸発源2が配置されており、この蒸発源2の上方には、被処理物5、5を支持する支持部4が設けられている。蒸発源2は、蒸発物21と、ランプ22、22とを内蔵している。蒸発物21は、ランプ22、22からの熱輻射によって加熱され、蒸発する。蒸発した蒸発物21は、蒸発源2の噴出口2aを介して上方に噴出され、被処理物5、5の表面に付着し、これによって被処理物5、5の表面に膜が生成される。
請求項（抜粋）：
排気手段によって内部が排気されている真空槽と、この真空槽内に配置された蒸発物と、この蒸発物の露出した表面に熱を輻射してこれを加熱し蒸発させる熱輻射手段と、この蒸発した蒸発物が表面に付着する状態に被処理物を上記真空槽内に支持する支持手段と、を具備する真空蒸着装置。
引用特許：
前のページに戻る
