特許

J-GLOBAL ID：200903040707571893

光走査装置

発明者： 板橋 彰久
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 石橋 佳之夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-188831
公開番号（公開出願番号）：特開2000-019442
出願日： 1998年07月03日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】 画像の濃度ムラを人間の目で識別することができないレベルまで低減させることができる光走査装置を得る。【解決手段】 被走査面上において副走査方向に一定の間隔になるように配列された偶数個の発光点からなる光源部10、カップリングレンズ20、第1結像系30、偏向器40、第2結像系50を有し、偶数個の発光点から発光された光束が被走査面上を走査する光走査装置であって、被走査面上のビーム径をガウシャンビームに近似させたときのピーク強度比1/e<SP>2</SP>の径をω、発光点の総数をm、カップリングレンズ20の光軸に一番近い位置に配置された発光点から発光された光束の被走査面上における走査位置の第2結像系50の光軸からの距離の、画素密度から求められる理想的な走査位置に対するずれ量をδ(even)とするとき、δ(even)<ω/{12(m-1)}を満足する。

請求項（抜粋）：

被走査面上において副走査方向に一定の間隔になるように配列された偶数個の発光点からなる光源部と、上記光源部からの発散光束を集光するカップリングレンズと、上記カップリングレンズを透過した光束を副走査方向に収束する第1結像系と、上記第1結像系によって偏向面近傍に略線状に結像された光束を等角速度的に偏向する偏向器と、上記偏向器によって偏向された光束を被走査面上に光スポットとして結像する第2結像系とを有し、上記偶数個の発光点から発光された光束が被走査面上を走査する光走査装置であって、被走査面上のビーム径をガウシャンビームに近似させたときのピーク強度比1/e<SP>2</SP>の径をω、上記発光点の総数をm、複数の発光点のうち上記カップリングレンズの光軸に一番近い位置に配置された発光点から発光された光束の被走査面上における走査位置の第2結像系の光軸からの距離の、画素密度から求められる理想的な走査位置に対するずれ量をδ(even)とするとき、δ(even)<ω/{12(m-1)}を満足することを特徴とする光走査装置。

IPC (4件)：

G02B 26/10 ,  G02B 26/10 102 ,  B41J 2/44 ,  H04N 1/113

FI (4件)：

G02B 26/10 B ,  G02B 26/10 102 ,  B41J 3/00 D ,  H04N 1/04 104 A

Fターム (24件)：

2C362AA49 ,  2C362BA58 ,  2C362BA61 ,  2C362BA67 ,  2C362BA83 ,  2C362BA86 ,  2C362BA90 ,  2C362BB04 ,  2C362DA04 ,  2H045AA01 ,  2H045BA23 ,  2H045BA33 ,  2H045CB33 ,  2H045CB35 ,  2H045CB65 ,  2H045DA02 ,  5C072AA03 ,  5C072BA15 ,  5C072DA02 ,  5C072DA04 ,  5C072HA01 ,  5C072HA13 ,  5C072XA01 ,  5C072XA05

引用特許：

審査官引用 (3件)

• マルチビーム光走査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-002334   出願人：株式会社リコー
• 特開昭58-052613
  
• 特開昭58-052613