特許
J-GLOBAL ID：200903040742447550
パターン形成方法、一組の露光マスク、薄膜トランジスタマトリクス装置及びその製造方法、液晶表示装置及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-340027
公開番号（公開出願番号）：特開平9-236930
出願日： 1996年12月19日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：
【要約】【課題】複数枚に分担して形成されたパターン形成領域同士を繋ぎ合わせて一つの全体パターンを形成する複数枚からなるパターン形成方法に関し、複数枚の露光マスクを用い、パターンを繋ぎ合わせて規則的に並ぶ全体のパターンを形成する場合に、規則性を崩さずに繋ぎ合わせた部分で異なる露光に係るパターンを混在させる。【解決手段】第1の露光マスク(11a)を用いて露光し、第1の領域の上の感光性レジスト膜(52)に複数の第1のパターンの潜像を規則的に配置形成するとともに、第3の領域(JT1)の上の感光性レジスト膜(52)に第1のパターンが入る広さの未露光領域と第1のパターンの潜像とを形成する工程と、第2の露光マスク(11b)を用いて露光し、第2の領域の上の感光性レジスト膜(52)に複数の第1のパターンの潜像を規則的に配置形成するとともに、第3の領域(JT1)上の未露光領域に第1のパターンの潜像を形成する工程とを有する。
請求項（抜粋）：
第1の領域と、第2の領域と、該第1の領域と該第2の領域に挟まれた第3の領域とを有する基板の上に感光性レジスト膜を形成する工程と、第1の露光マスクを使用して前記感光性レジスト膜を露光し、これにより、前記第1の領域の上の前記感光性レジスト膜に複数の第1のパターンの潜像を規則的に配置形成するとともに、前記第3の領域の上の前記感光性レジスト膜に前記第1のパターンが入る広さの未露光領域と少なくとも1つの前記第1のパターンの潜像とを形成する工程と、第2の露光マスクを使用して前記感光性レジスト膜を露光し、これにより、前記第2の領域の上の前記感光性レジスト膜に複数の前記第1のパターンの潜像を規則的に配置形成するとともに、前記第3の領域上の前記未露光領域に前記第1のパターンの潜像を形成する工程と、前記感光性レジスト膜を現像することにより、前記感光性レジスト膜よりなる複数の前記第1のパターンを顕像化する工程と、前記感光性レジスト膜よりなる前記第1のパターンをマスクに使用して、所望の膜よりなる複数の第2のパターンを規則的に配列して形成する工程とを有するパターン形成方法。
IPC (5件)：
G03F 7/26 511
, G02F 1/13 101
, G02F 1/136 500
, G03F 1/08
, H01L 21/027
G03F 7/26 511
, G02F 1/13 101
, G02F 1/136 500
, G03F 1/08 D
, H01L 21/30 502 G
, H01L 21/30 502 P
