特許

J-GLOBAL ID：200903040748105759

静電潜像測定方法、静電潜像測定装置、画像形成装置、潜像担持体、静電潜像測定プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体

発明者： 上田 健
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 丸山 隆夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-244746
公開番号（公開出願番号）：特開2008-065182
出願日： 2006年09月08日
公開日（公表日）： 2008年03月21日
要約：

【課題】表示された倍率と、実倍率とに、矛盾が生じないよう調整する静電潜像測定方法、静電潜像測定装置、画像形成装置、潜像担持体、静電潜像測定プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。【解決手段】荷電粒子銃11、アパーチャ12、12A、コンデンサレンズ13、ビームブランカ14、ビーム偏向手段15、対物レンズ16、荷電粒子ビーム駆動部31、排気手段33、コンピュータ40、第1の光源である半導体レーザ17、コリメートレンズ18、アパーチャ19、「結像レンズ」を構成するレンズ21、22、23、半導体レーザ駆動部32、荷電粒子捕獲器24、荷電粒子検出部25、信号処理部26、試料載置台28、試料SP、除電用の発光素子29(第2の光源、LED)、LED駆動部35、試料台駆動部34を主な構成とし、対物レンズ16の屈折力、若しくは印加電圧に合わせて倍率を表す表示を変える。【選択図】図10

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを、表面電位分布を有する試料に対して照射する工程と、 前記荷電粒子ビームは、少なくとも1以上の電子レンズから成る第1の電子レンズ群を通過する工程と、 アパーチャにより前記荷電粒子ビームの通過を制限する工程と、 前記荷電粒子ビームを偏向する工程と、 前記荷電粒子ビームは、少なくとも1以上の電子レンズから成り、前記偏向させた際のビーム偏向中心より前記試料側に主点を有する、第2の電子レンズ群を通過する工程と、 倍率を表示する工程と、を備え、 前記倍率を表示する工程は、表示する倍率を前記第2の電子レンズ群の屈折力に応じて変化させることを特徴とする静電潜像測定方法。

IPC (3件)：

G03G 21/00 ,  H01J 37/28 ,  H01J 37/22

FI (3件)：

G03G21/00 ,  H01J37/28 B ,  H01J37/22 502D

Fターム (5件)：

2H134QA02 ,  5C033UU01 ,  5C033UU02 ,  5C033UU05 ,  5C033UU08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 表面電荷分布測定方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-043587   出願人：株式会社リコー