特許
J-GLOBAL ID：200903040793863451

基板上に形成されたライン構造の応力界と特性のリアルタイム評価

発明者：
スレシュ スブラ

スレシュ スブラ について

, 
ロサキス アレス ジェー

ロサキス アレス ジェー について


出願人/特許権者：
カリフォルニア インスティテュート オブ テクノロジー

カリフォルニア インスティテュート オブ テクノロジー について


代理人 (2件)： 大庭 咲夫 ,  加藤 慎治
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-579331
公開番号（公開出願番号）：特表2004-501355
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：
基板上に形成されたライン構造の応力を評価する方法とシステム。応力は、測定された曲率の情報から、単純な解析関数に基づいて計算することができる。該曲率の情報は、例えば照射領域の全界測定を行えるコヒーレント・グラジエント・センシング法によって光学的に得ることができる。
請求項（抜粋）：
加工されてライン構造を有する基板の反射面に光学的プローブビームを向けて、反射プローブビームを生成する光学的検出モジュールであって、前記反射面の領域の曲率の情報を有する曲率信号を、前記反射プローブビームに基づいて生成するように作動する光学的検出モジュールと、 前記基板上の各ライン構造の応力を、ライン構造の位置に対応する基板の二つの異なる方向の曲率の解析関数から計算する処理モジュールと を備えてなるシステム。
IPC (2件)：
G01B11/16 ,  H01L21/66
FI (2件)：
G01B11/16 G ,  H01L21/66 J
Fターム (24件)：
2F065AA46 ,  2F065AA51 ,  2F065BB02 ,  2F065BB17 ,  2F065BB22 ,  2F065CC19 ,  2F065FF04 ,  2F065FF41 ,  2F065FF48 ,  2F065FF51 ,  2F065GG22 ,  2F065HH03 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL37 ,  2F065LL42 ,  2F065QQ31 ,  4M106AA01 ,  4M106AA07 ,  4M106AB20 ,  4M106BA04 ,  4M106CA47 ,  4M106DB01
引用特許：
審査官引用 (2件)

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