特許
J-GLOBAL ID：200903040796845225
フォトレジストディスペンシング装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
朝比 一夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-040154
公開番号（公開出願番号）：特開2000-243698
出願日： 2000年02月17日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 定量のフォトレジストを一定圧力でウェーハ上に塗布することができるフォトレジストディスペンシング装置を提供する。【解決手段】 フォトレジストを貯蔵する貯蔵タンク20と、フォトレジストをウェーハに噴射する噴射ノズル28と、貯蔵タンクからフォトレジストを導入して噴射ノズル28に送出する送出ユニット24と、送出ユニットの作動を制御する空気圧制御ユニット100と、貯蔵タンクと送出ユニットとの間に配設され、送出ユニットに導入されるフォトレジストのうちの被濾過物を濾過するフィルター34とを含み、送出ユニットは、貯蔵タンクに連結された流入通路44、前記ノズルに連結された送出通路46及びこれら流入通路と送出通路を連結する送出ベース42と、第1遮断バルブ54と、ポンプ56と、第2遮断バルブ58と、サックバックバルブ60とを有する。
請求項（抜粋）：
半導体ウェーハ上にフォトレジストを塗布するためのフォトレジストディスペンシング装置において、フォトレジストを貯蔵する貯蔵タンクと、フォトレジストをウェーハに噴射する噴射ノズルと、前記貯蔵タンクからフォトレジストを導入して前記噴射ノズルに送出する送出ユニットと、前記送出ユニットの作動を制御する空気圧制御ユニットと、前記貯蔵タンクと送出ユニットとの間に配設され、送出ユニットに導入されるフォトレジストのうちの被濾過物を濾過するフィルターとを含み、前記送出ユニットは、前記貯蔵タンクに連結された流入通路、前記ノズルに連結された送出通路及びこれら流入通路と送出通路を連結する第1ないし第3連結通路を有する送出ベースと、前記流入通路と第1連結通路との間で前記送出ベースに設けられた第1遮断バルブと、前記第1連結通路と第2連結通路との間で前記送出ベースに設けられたポンプと、前記第2連結通路と第3連結通路との間で前記送出ベースに設けられた第2遮断バルブと、前記第3連結通路と送出通路との間で前記送出ベースに設けられたサックバックバルブとを有することを特徴とするフォトレジストディスペンシング装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/16 502
H01L 21/30 564 C
, G03F 7/16 502
