特許

J-GLOBAL ID：200903040852137840

高一酸化炭素濃度浸炭ガスの製造方法及び製造装置

発明者： 深田 徹 ,  水野 三千一 ,  山田 恵 ,  森田 浩光 ,  斉藤 芳則 ,  丸澤 博 ,  和田 信之
出願人/特許権者： 岩谷産業株式会社 ,  株式会社村田製作所
代理人 (2件)： 鈴江 正二 ,  木村 俊之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-000846
公開番号（公開出願番号）：特開2008-169049
出願日： 2007年01月05日
公開日（公表日）： 2008年07月24日
要約：

【課題】 一酸化炭素濃度の高い浸炭ガスを得る方法及びその装置を提供するとともに、装置系で発生した二酸化炭素を再利用でき、自然界に放出する二酸化炭素を少なくできる高一酸化炭素濃度の浸炭ガスの製造方法及びその装置を提供する。 【解決手段】 二酸化炭素吸収後の二酸化炭素吸収材に、浸炭ガス生成装置からの浸炭ガスを流通させることで、二酸化炭素吸収材から二酸化炭素を放出する再生反応と、二酸化炭素と水素から一酸化炭素と水とを生成する逆シフト反応とにより一酸化炭素濃度の高い浸炭ガスを生成する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

反応管に二酸化炭素吸収材を充填し、この反応管に浸炭ガス生成装置で生成した一酸化炭素と水素とを含む浸炭ガスを流通させ、二酸化炭素吸収材から二酸化炭素を放出させ、二酸化炭素吸収材から放出された二酸化炭素と浸炭ガスの反応により、一酸化炭素濃度の高い高一酸化炭素濃度浸炭ガスを生成することを特徴とする高一酸化炭素濃度浸炭ガスの製造方法。

IPC (7件)：

C01B 3/38 ,  C23C 8/20 ,  C21D 1/06 ,  C21D 1/76 ,  B01J 20/04 ,  B01J 20/34 ,  C10K 3/06

FI (7件)：

C01B3/38 ,  C23C8/20 ,  C21D1/06 A ,  C21D1/76 Q ,  B01J20/04 C ,  B01J20/34 F ,  C10K3/06

Fターム (24件)：

4G066AA16B ,  4G066AA23B ,  4G066AA43D ,  4G066CA35 ,  4G066DA05 ,  4G066GA01 ,  4G066GA06 ,  4G066GA32 ,  4G140EA03 ,  4G140EA05 ,  4G140EA07 ,  4G140EB03 ,  4G140EB16 ,  4G140EB37 ,  4G140EB42 ,  4G140EB43 ,  4G140EB44 ,  4H060AA01 ,  4H060BB14 ,  4H060DD02 ,  4H060EE01 ,  4H060FF03 ,  4K028AA01 ,  4K028AC08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 浸炭用雰囲気ガス発生装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-148169   出願人：日本酸素株式会社, 光洋サーモシステム株式会社