特許
J-GLOBAL ID：200903083148550334
浸炭用雰囲気ガス発生装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
木戸 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-148169
公開番号（公開出願番号）：特開2003-342709
出願日： 2002年05月22日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：
【要約】【課題】 変成炉内での煤の発生を抑制し、浸炭用雰囲気ガスとして好適な一酸化炭素を高濃度に含む変成ガスを安定して発生させることができる浸炭用雰囲気ガス発生装置及び方法を提供する。【解決手段】 変成炉として、第一変成炉14と第二変成炉15とを直列に接続して設け、第一変成炉と第二変成炉との間の経路に、第一変成炉から導出されて第二変成炉に導入される中間変成ガス中の水分を除去する水分除去手段としての第一冷却器22を設けるとともに、該中間変成ガスに炭化水素を添加する炭化水素添加部24を設け、炭化水素の混合割合を低くした状態の原料混合ガスを前記第一変成炉に導入して触媒反応させることにより中間変成ガスを発生させた後、該中間変成ガスに含まれる水分を除去し、該中間変成ガスに炭化水素を添加してから第二変成炉に導入し、触媒反応させることによって浸炭用雰囲気ガスを発生する。
請求項（抜粋）：
炭化水素と、二酸化炭素、酸素等の源ガスとを混合した原料混合ガスを触媒層を有する変成炉に導入し、触媒反応によって一酸化炭素と水素とを含む浸炭用雰囲気ガスを発生する装置において、前記変成炉として、第一変成炉と第二変成炉とを直列に接続して設け、第一変成炉と第二変成炉との間の経路に、第一変成炉から導出されて第二変成炉に導入される中間変成ガス中の水分を除去する水分除去手段を設けるとともに、該中間変成ガスに炭化水素を添加する炭化水素添加部を設けたことを特徴とする浸炭用雰囲気ガス発生装置。
IPC (4件)：
C23C 8/20
, C01B 3/38
, C21D 1/76
, C01B 31/18
C23C 8/20
, C01B 3/38
, C21D 1/76 J
, C01B 31/18 A
4G140EA03
, 4G140EA05
, 4G140EA07
, 4G140EB03
, 4G140EB18
, 4G140EB37
, 4G140EB42
, 4G146JA01
, 4G146JB02
, 4G146JB04
, 4G146JC01
, 4G146JC17
, 4G146JC22
, 4G146JC36
, 4G146JD06
, 4K028AA01
, 4K028AB01
, 4K028AC08
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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