特許
J-GLOBAL ID:200903040861979595
紫外線吸収剤組成物およびそれを用いて加工された耐光性材料
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
青木 篤
, 石田 敬
, 吉田 維夫
, 古賀 哲次
, 永坂 友康
, 出野 知
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-032216
公開番号(公開出願番号):特開2009-191136
出願日: 2008年02月13日
公開日(公表日): 2009年08月27日
要約:
【課題】アルカリや金属イオンの存在下でも黄変することなく、紫外線を遮断するのに必要な量の紫外線吸収剤を透明ポリマーや白色の基材に対しても使用することが可能な紫外線吸収剤組成物を提供する。【解決手段】フェノール性水酸基を有する紫外線吸収剤(A)と有機酸アニオン(B)とおよび有機酸アニオン(B)との塩を形成する第4級アンモニウム基を構成成分として含むカチオン系ポリマー(C)とからなり、紫外線吸収剤(A)とカチオン系ポリマー(C)との配合比が紫外線吸収剤(A)のフェノール性水酸基1当量に対するカチオン系ポリマー(C)の第4級アンモニウム基が10〜0.1当量となる、紫外線吸収剤組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
フェノール性水酸基を有する紫外線吸収剤(A)と、有機酸アニオン(B)と、および有機酸アニオン(B)との塩を形成する第4級アンモニウム基を構成成分として含むカチオン系ポリマー(C)からなり、紫外線吸収剤(A)とカチオン系ポリマー(C)との配合比が紫外線吸収剤(A)のフェノール性水酸基1当量に対するカチオン系ポリマー(C)の第4級アンモニウム基が10〜0.1当量となるものである、紫外線吸収剤組成物。
IPC (1件):
FI (4件):
C09K3/00 104
, C09K3/00 104C
, C09K3/00 104A
, C09K3/00 104B
引用特許:
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