特許
J-GLOBAL ID：200903040867898651

低硬度ロールの製法

発明者：
吉川 均

吉川 均 について

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鈴木 智志

鈴木 智志 について

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伊東 邦夫

伊東 邦夫 について


出願人/特許権者：
東海ゴム工業株式会社

東海ゴム工業株式会社 について


代理人 (1件)： 西藤 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-389404
公開番号（公開出願番号）：特開2002-187141
出願日： 2000年12月21日
公開日（公表日）： 2002年07月02日
要約：
【要約】【課題】ベースロールの研磨工程が不要(研磨レス)で、寸法精度が良好な状態での脱型が可能である離型性に優れた低硬度ロールの製法を提供する。【解決手段】軸体1の外周面にベース層が形成されてなるベースロールと、このベースロールの外周面に形成される表層4とを備えた低硬度ロールの製法である。そして、静摩擦係数が1.2未満の表層用材料を調製する工程と、予めロール成形用金型21の内周面に上記表層用材料を塗布して表層4を形成する工程と、上記表層4を形成した金型内21に軸体1をセットし上記表層4と軸体1の空隙部24にベース層用材料を注型してベースロールを作製する工程と、上記ベースロールと表層4とを金型21から脱型してベースロールの外周面に表層4が形成されてなる低硬度ロールを作製する工程とを有する。
請求項（抜粋）：
軸体の外周面にベース層が形成されてなるベースロールと、このベースロールの外周面に形成される表層とを備えた低硬度ロールの製法であって、静摩擦係数が1.2未満の表層用材料を調製する工程と、予めロール成形用金型の内周面に上記表層用材料を塗布して表層を形成する工程と、上記表層を形成した金型内に軸体をセットし上記表層と軸体の空隙部にベース層用材料を注型してベースロールを作製する工程と、上記ベースロールと表層とを金型から脱型する工程とを有することを特徴とする低硬度ロールの製法。
IPC (12件)：
B29C 39/12 ,  B29C 39/10 ,  B65H 3/06 330 ,  B65H 5/06 ,  G03G 15/02 101 ,  G03G 15/08 501 ,  G03G 15/08 ,  G03G 15/16 103 ,  B29K 21:00 ,  B29K105:04 ,  B29K105:20 ,  B29L 31:32
FI (12件)：
B29C 39/12 ,  B29C 39/10 ,  B65H 3/06 330 E ,  B65H 5/06 C ,  G03G 15/02 101 ,  G03G 15/08 501 A ,  G03G 15/08 501 D ,  G03G 15/16 103 ,  B29K 21:00 ,  B29K105:04 ,  B29K105:20 ,  B29L 31:32
Fターム (35件)：
2H003BB11 ,  2H003CC05 ,  2H032AA05 ,  2H077AC04 ,  2H077AD06 ,  2H077FA13 ,  2H077FA22 ,  2H077FA26 ,  2H077FA27 ,  3F049CA15 ,  3F049LA02 ,  3F049LB03 ,  3F343FA02 ,  3F343FB02 ,  3F343JA11 ,  3F343KB16 ,  4F204AA16 ,  4F204AA21 ,  4F204AA24 ,  4F204AA31 ,  4F204AA42 ,  4F204AA45 ,  4F204AG03 ,  4F204AG20 ,  4F204EA01 ,  4F204EA03 ,  4F204EA04 ,  4F204EB01 ,  4F204EB12 ,  4F204EB22 ,  4F204EB23 ,  4F204EF01 ,  4F204EF05 ,  4F204EF27 ,  4F204EF49
引用特許：
審査官引用 (20件)
  • 特開昭63-230464
  • 特公平3-012543
  • 特開昭63-152711
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