特許

J-GLOBAL ID：200903040943737379

皮膚化粧料

発明者： 棚橋 昌則 ,  松本 泰伸
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 有賀 三幸 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-280254
公開番号（公開出願番号）：特開平8-143417
出願日： 1994年11月15日
公開日（公表日）： 1996年06月04日
要約：

【要約】【構成】 (A)式(1);R1-(CH2)n-COOH ・・・・(1)(R1 はOHで置換されたC1〜C8のアルキル基、nは1〜18)で表わされるカルボン酸、並びにその塩、エステル誘導体及びアミド誘導体から選ばれる化合物、及び(B)式(2)【化1】(R2 はC10〜C26の炭化水素基、R3 はC9〜C25の炭化水素基、Y及びZはH又は-(CH2)n-OH(nは1〜3)、Aは単結合又は-O-CH2-)で表わされるアミド誘導体を含有する皮膚化粧料。【効果】 脂性の肌荒れの改善効果に優れ、肌のキメを整えることができ、安全性も良好である。

請求項（抜粋）：

次の成分(A)及び(B):(A)一般式(1);R1-(CH2)n-COOH ・・・・(1)(式中、R1 は1又は2以上のヒドロキシル基で置換された炭素数1〜8の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、nは1〜18の数を示す)で表わされる総炭素数6〜20のカルボン酸、並びにその塩、エステル誘導体及びアミド誘導体から選ばれる化合物、(B)一般式(2)【化1】〔式中、R2 は炭素数10〜26の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素基を示し、R3 は炭素数9〜25の直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和の炭化水素基を示し、Y及びZはそれぞれ水素原子又は-(CH2)n-OH(nは1〜3の数を示す)を示し、Aは単結合又は-O-CH2-(但し、酸素原子はR2 と結合する)を示す〕で表わされるアミド誘導体を含有する皮膚化粧料。

IPC (5件)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/48 ,  C07C 59/01 ,  C07C233/18 ,  C07C233/20

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 化粧品組成物の使用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-183049   出願人：ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ
• 皮脂分泌抑制剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-265252   出願人：花王株式会社
• 特開昭63-192703