位相シフト・マスクの検査方法及びそれを実施する装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柏谷昭司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-011636
公開番号（公開出願番号）：特開平5-204133
出願日： 1992年01月27日
公開日（公表日）： 1993年08月13日
要約：

【要約】【目的】位相シフト・マスクの検査方法及びそれを実施する装置に関し、簡単な手段に依って、位相シフト・マスクに於ける膜厚に起因する欠陥を容易に検出できるようにしようとする。【構成】位相シフト・マスクである光学マスク11の表面に例えば波長λ1 の光を照射することで得られた同じ波長λ1 の反射光の強度を第一の光強度検出器8で検出し、同じ光学マスク11の裏面に前記波長λ1 と異なる例えば波長λ2 の光を照射することで得られた同じ波長λ2 の透過光の強度を第二の光強度検出器9で検出し、その検出された信号を信号処理装置10に於いて処理し、光学マスク11上に形成されている位相シフタの膜厚を知得するようにしている。

請求項（抜粋）：

位相シフト・マスクである光学マスクの表面に照射された波長λ1 の光の反射光の強度と同じく裏面に照射された波長λ2 の光の透過光の強度とを検出し、その検出された信号から光学マスク上に形成されている位相シフタの膜厚を検出することを特徴とする位相シフト・マスクの検査方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G01B 11/06 , H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/30 301 P , H01L 21/30 311 L , H01L 21/30 311 W

引用特許：

審査官引用 (2件)

マスク検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-308238 出願人：株式会社ニコン
特開平4-318550

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