特許
J-GLOBAL ID：200903041117160398
微細パターンの製造方法及びそれを用いたカラーフィルタ並びに遮光パターンフィルタ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-310349
公開番号（公開出願番号）：特開平10-152797
出願日： 1996年11月21日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、微細パターンを再現性よく媒体基板上に完全剥離転写できるとともに、マスター基板の繰り返し利用が可能で、かつ高精細、高密度の微細パターンを簡単に量産性よく形成できる微細パターンの製造方法、及びそれを用いたカラーフィルタ及び遮光パターンフィルタの提供を目的とする。【解決手段】 本発明の微細パターンの製造方法は、所定形状のパターン電極層を有するマスター基板を作製する工程と、マスター基板上に導電性の撥水性薄膜からなる剥離層を形成する工程と、剥離層上に電着樹脂からなる微細パターンを形成する工程と、電着樹脂に水分を含浸させる工程と、マスター基板から微細パターンを媒体基板の接着層上に剥離転写する工程と、を備えた構成よりなる。また、本発明のカラーフィルタ及び遮光パターンフィルタは、本発明の微細パターンの製造方法により製造される構成よりなる。
請求項（抜粋）：
絶縁性基板と、前記絶縁性基板上に形成された所定形状のパターン電極層と、を有するマスター基板を作製するマスター基板作製工程と、前記マスター基板上に導電性を有する撥水性薄膜からなる剥離層を形成する剥離層形成工程と、前記剥離層上に電着樹脂からなる微細パターンを形成する微細パターン形成工程と、前記電着樹脂に水分を含浸させる含水工程と、前記マスター基板から前記微細パターンを媒体基板の接着層上に剥離転写する剥離転写工程と、を備えた微細パターンの製造方法。
IPC (5件)：
C25D 13/00 310
, C23F 4/00
, G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 500
, G02F 1/1335 505
C25D 13/00 310
, C23F 4/00
, G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 500
, G02F 1/1335 505
