光発生装置及び露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤元亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-040848
公開番号（公開出願番号）：特開2005-235883
出願日： 2004年02月18日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：

【課題】良好なデブリ除去を実現し、光学系の性能の低下を抑え、安定してEUV光を発生させることができる光発生装置及び露光装置を提供する。【解決手段】真空又は減圧環境に置かれた標的部材にレーザー光を照射してプラズマを生成し、前記プラズマから放射される光を取り出す光発生装置であって、前記真空又は減圧環境を隔離すると共に、前記レーザー光を透過するレーザー導入窓と、前記導入窓と前記標的部材との間に配置され、前記標的部材から発生するデブリが前記レーザー導入窓に付着することを防止する防止手段とを有し、前記防止手段は、前記デブリを吸着すると共に、前記レーザー光を透過又は反射する吸着機構と、前記レーザー光の発光時は前記レーザー光を通過させ、前記レーザー光の発光時以外は前記レーザー光の光路を遮断する遮断機構と、電荷を帯びた前記デブリの運動方向を変更する偏向手段とを有することを特徴とする光発生装置を提供する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空又は減圧環境に置かれた標的部材にレーザー光を照射してプラズマを生成し、前記プラズマから放射される光を取り出す光発生装置であって、前記真空又は減圧環境を隔離すると共に、前記レーザー光を透過するレーザー導入窓と、前記導入窓と前記標的部材との間に配置され、前記標的部材から発生するデブリが前記レーザー導入窓に付着することを防止する防止手段とを有し、前記防止手段は、前記デブリを吸着すると共に、前記レーザー光を透過又は反射する吸着機構と、前記レーザー光の発光時は前記レーザー光を通過させ、前記レーザー光の発光時以外は前記レーザー光の光路を遮断する遮断機構と、電荷を帯びた前記デブリの運動方向を変更する偏向手段とを有することを特徴とする光発生装置。

IPC (9件)：

H01L21/027 , G03F7/20 , G21K1/087 , G21K1/093 , G21K5/00 , G21K5/02 , G21K5/08 , H05G2/00 , H05H1/24

FI (9件)：

H01L21/30 531S , G03F7/20 503 , G21K1/087 D , G21K1/093 D , G21K5/00 A , G21K5/02 X , G21K5/08 X , H05H1/24 , H05G1/00 K

Fターム (12件)：

2H097CA15 , 2H097GB01 , 4C092AA06 , 4C092AA17 , 4C092AB19 , 4C092AC09 , 4C092BD18 , 4C092BD20 , 5F046GA03 , 5F046GA14 , 5F046GB09 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (2件)

軟X線利用装置のデブリ除去機構
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-243600 出願人：山本正樹, 三菱プレシジョン株式会社
飛散粒子除去装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-270116 出願人：株式会社トヨタマックス

審査官引用 (8件)

レーザープラズマEUV光源装置及びそれに用いられるターゲット
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-004756 出願人：株式会社トヨタマックス, 株式会社豊田中央研究所
X線発生装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-339925 出願人：キヤノン株式会社
特開昭63-292553

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