特許

J-GLOBAL ID：200903041147305633

非晶質硬質炭素膜及びその製造方法

発明者： 諸貫 正樹
出願人/特許権者： 株式会社リケン
代理人 (1件)： 村井 卓雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-135366
公開番号（公開出願番号）：特開2001-316819
出願日： 2000年05月09日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：

【要約】【課題】 高強度、高密着性かつ低摩擦係数の非晶質硬質炭素膜及びその製造方法を提供することにある。【解決手段】 炭素と水素を主成分とする非晶質炭素膜であって、膜中に金属酸化物を含有したことを特徴とする。この金属酸化物はSi,Ti,B及びWからなる群から選ばれた少なくとも1種以上の元素の酸化物を含むものである。

請求項（抜粋）：

炭素と水素を主成分とする非晶質炭素膜であって、膜中に金属酸化物を含有したことを特徴とする非晶質硬質炭素膜。

IPC (2件)：

C23C 16/26 ,  C01B 31/02 101

FI (2件)：

C23C 16/26 ,  C01B 31/02 101 Z

Fターム (13件)：

4G046CA02 ,  4G046CB03 ,  4G046CB08 ,  4G046CC06 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030AA14 ,  4K030BA27 ,  4K030BB05 ,  4K030CA02 ,  4K030LA01 ,  4K030LA22 ,  4K030LA23

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 炭素膜及びその形成方法並びに炭素膜被覆物品及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-172130   出願人：日新電機株式会社
• 特開平3-240957