特許
J-GLOBAL ID：200903041178716623
エキシマレーザー発振装置及びステッパー装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-079573
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246673
出願日： 1996年03月07日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：
【要約】【発明の名称】【課題】 本発明は、レーザチャンバー中のF2ガス濃度を測定する手段を提供し、F2濃度を一定範囲に保つことによりパルスレーザーの出力を長期間にわたって安定に保つことのできるエキシマレーザー装置を提供することを目的とする。 更には、0.25μm以下の微細パターンの露光が繰返し長期間安定して行えるステッパー装置を提供することを目的とする。【解決手段】 エキシマレーザー発振装置のレーザーチャンバー内のF2ガス濃度を検出するガスクロマトグラフ装置を有することを特徴とする。ガスクロマトグラフ装置のガス配管系、分離カラム及び検出器の内面は、フッ化不動態膜が形成されているのが好ましく、分離カラム充填物の少なくとも表面はフッ化物であるのが好ましい。また、ステッパー装置は、上記エキシマレーザー発振装置と、基板を移動させるステージとから構成される。
請求項（抜粋）：
エキシマレーザー発振装置のレーザーチャンバー内のF2ガス濃度を検出するガスクロマトグラフ装置を有することを特徴とするエキシマレーザー発振装置。
IPC (3件)：
H01S 3/225
, H01L 21/027
, H01S 3/036
H01S 3/223 E
, H01L 21/30 515 B
, H01S 3/03 J
