第3級アミンの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：古谷馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-025241
公開番号（公開出願番号）：特開平6-239809
出願日： 1993年02月15日
公開日（公表日）： 1994年08月30日
要約：

【要約】【構成】第1級アミンまたは第2級アミンに、3〜50kg/cm2 (ゲージ圧)の水素圧、温度80〜 180°Cで、ホルムアルデヒドを反応させ、対応する第3級アミンを製造する方法において、触媒として、粉末あるいは粒状炭素に下記(a) または(b) の方法で0.1 〜10重量%のPdを担持させたPd触媒を用いる。(a) 塩酸を含む塩化パラジウム又は硝酸パラジウム水溶液に所定量の活性炭を加え減圧下で水及び塩酸を除去後、空気中で乾燥・焼成する。(b) 塩酸を含む塩化パラジウム又は硝酸パラジウム水溶液に所定量の活性炭を加え減圧下で水及び塩酸を除去後、水素雰囲気下で還元処理する。【効果】反応条件面及び出発原料種などに限定されることなく高収率で目的とする第3級アミンを製造することができる。また触媒活性を上げるための特別な操作も必要とせず、且つ、触媒の使用量も非常に少なくて、短時間で反応を完結できる。

請求項（抜粋）：

第1級アミンまたは第2級アミンに、水素圧下、ホルムアルデヒドを反応させ、対応する第3級アミンを製造する方法において、触媒として、粉末あるいは粒状炭素に下記(a) または(b) の方法で0.1 〜10重量%のPdを担持させたPd触媒を用いることを特徴とする第3級アミンの製造方法。(a) 塩酸を含む塩化パラジウム又は硝酸パラジウム水溶液に所定量の活性炭を加え減圧下で水及び塩酸を除去後、空気中で乾燥・焼成する。(b) 塩酸を含む塩化パラジウム又は硝酸パラジウム水溶液に所定量の活性炭を加え減圧下で水及び塩酸を除去後、水素雰囲気下で還元処理する。

IPC (7件)：

C07C209/26 , B01J 23/44 , C07C211/03 , C07C211/09 , C07C215/12 , C07C217/08 , C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (1件)

ガス供給系用部品
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-272835 出願人：株式会社日立製作所

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