特許
J-GLOBAL ID:200903041331228986

回析光学素子及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大塚 康徳 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-282059
公開番号(公開出願番号):特開2001-108810
出願日: 1999年10月01日
公開日(公表日): 2001年04月20日
要約:
【要約】【課題】2つの回折光学素子を高精度でしかも簡単に積層組み付けできる方法を提供する。【解決手段】2つの軸対称回折光学素子を積層した積層型回折光学素子を製造するための回折光学素子の製造方法であって、各軸対称回折光学素子1,2の光軸10の近傍に、それぞれの光軸と同軸をなす僅かに直径の異なるリング状の凹部3,4を形成するリング部形成工程と、各軸対称回折光学素子の夫々直径の異なる凹部3,4間の隙間が円周方向で略均一となるように、2つの軸対称回折光学素子を位置決めする位置決め工程と、位置決め工程で位置決めした状態で、2つの軸対称回折光学素子を固定する固定工程とを具備する。
請求項(抜粋):
2つの軸対称回折光学素子を積層した積層型回折光学素子を製造するための回折光学素子の製造方法であって、各軸対称回折光学素子の光軸近傍に、それぞれの光軸と同軸をなす僅かに直径の異なるリング状の凹部又は凸部を形成するリング部形成工程と、前記各軸対称回折光学素子の夫々直径の異なる前記凹部又は凸部間の隙間が円周方向で略均一となるように、前記2つの軸対称回折光学素子を位置決めする位置決め工程と、前記位置決め工程で位置決めした状態で、前記2つの軸対称回折光学素子を固定する固定工程とを具備することを特徴とする回折光学素子の製造方法。
IPC (2件):
G02B 5/18 ,  G02B 3/08
FI (2件):
G02B 5/18 ,  G02B 3/08
Fターム (7件):
2H049AA03 ,  2H049AA04 ,  2H049AA32 ,  2H049AA39 ,  2H049AA63 ,  2H049AA65 ,  2H049AA68
引用特許:
審査官引用 (10件)
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