特許

J-GLOBAL ID：200903041366379006

画像形成装置

発明者： 江間 秀利 ,  石田 雅章
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 高野 明近 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-160159
公開番号（公開出願番号）：特開平6-347852
出願日： 1993年06月04日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：

【要約】【目的】 C-MOSデバイスを用いてIC化することにより、パルス幅を簡便に生成し、バイポーラデバイスを用いてIC化することにより、光電気負帰還ループの設計を容易にする。【構成】 画像データ8bitと位置制御信号2BitをディジタルASICに入力する。該ASICはCMOSデバイス1bであり、パルス幅変調およびパルス生成タイミングが設定された5ビットの出力D0〜D4を生成し、アナログASIC2に対して出力する。該アナログASIC2は入力された5ビットのデータにしたがい半導体レーザを変調する。5ビットデータD0〜D4の値は半導体レーザの光強度レベルを決定し、パルス幅が半導体レーザの光出力のパルス幅を決定し、パルスの発生タイミングが半導体レーザの発光タイミングを決定する。

請求項（抜粋）：

画像データを入力データとし、アナログASICに対して出力するディジタルASICと、該ディジタルASICの出力データを入力データとし、該入力データに基づいて半導体レーザを変調するアナログASICとから成り、半導体レーザの光強度レベル,パルス幅,発光タイミングを決定するものであることを特徴とする画像形成装置。

IPC (3件)：

G02F 3/00 ,  B41J 2/44 ,  H01S 3/096

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平1-304945
  
• 半導体レーザ制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-024622   出願人：株式会社リコー