特許
J-GLOBAL ID:200903041381614984

反射スケールおよびそれを用いた変位検出装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西山 恵三 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-041739
公開番号(公開出願番号):特開2002-323347
出願日: 2002年02月19日
公開日(公表日): 2002年11月08日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、光学的に相対位置を検出する変位測定装置で、光量使用効率を向上させ且つ機械的変動にも強い検出系を実現する。【解決手段】 具体的には光源手段と、該光源手段からの発散性光束を反射させる反射手段と、該反射手段殻の反射光束を受光する受光手段とを具備した光センサにおいて、該反射手段は、該光源手段からの発散性光束を2回以上の反射を繰り返して複数の波面に分割し、該分割した各光束を任意の位置に重ね合わせる光学特性を備えたものである。
請求項(抜粋):
照明手段と、該照明手段からの発散性光束を反射させる反射スケールと、該反射スケールからの反射光束を受光する受光手段とを具備した変位検出装置に採用される反射スケールであって、該照明手段からの発散性光束を少なくとも2回の反射によって前記照明手段と異なる方向に導光する光学機能を有していることを特徴とする反射スケール。
IPC (2件):
G01D 5/30 ,  G01B 11/00
FI (2件):
G01D 5/30 F ,  G01B 11/00 A
Fターム (23件):
2F065AA02 ,  2F065FF15 ,  2F065GG07 ,  2F065JJ18 ,  2F065LL11 ,  2F065LL18 ,  2F103BA01 ,  2F103BA05 ,  2F103BA13 ,  2F103BA27 ,  2F103BA43 ,  2F103CA03 ,  2F103DA01 ,  2F103DA12 ,  2F103EA05 ,  2F103EA15 ,  2F103EA19 ,  2F103EA20 ,  2F103EA21 ,  2F103EB06 ,  2F103EB12 ,  2F103EB27 ,  2F103EB32
引用特許:
出願人引用 (9件)
  • 特開昭58-106413
  • 特開昭49-012866
  • 光学式エンコーダ
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-301701   出願人:株式会社リコー
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審査官引用 (11件)
  • 特開昭58-106413
  • 特開昭58-106413
  • 特開昭49-012866
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