特許
J-GLOBAL ID：200903041393104426
レーザ加工装置、レーザ加工方法、およびフラットパネルディスプレイの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
日向寺 雅彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-124353
公開番号（公開出願番号）：特開2009-269083
出願日： 2008年05月12日
公開日（公表日）： 2009年11月19日
要約：
【課題】被処理物の照射対象部分の周辺にレーザ光が照射されるのを精度よく抑制すること。【解決手段】レーザ光源8と、被処理物の保持手段と、レーザ光が導入される照射手段5と、保持手段と照射手段との相対的な位置を変化させる第1の移動手段4と、照射手段の光軸に交差して設けられたマスク10と、光軸に対するマスクの相対的な位置を変化させる第2の移動手段11と、第2の移動手段を制御する制御手段3とを備え、マスクは、被処理物の照射対象部分の少なくとも一部分と相似形または同一形状を有し、レーザ光の一部を透過させてスポット形状を成形する透過部10aを有し、照射手段は、スポット形状を照射対象部分に転写する結像光学系9を有し、制御手段は、第2の移動手段を制御することで、照射対象部分の形状に基づいてレーザ光が透過する位置を変化させることを特徴とするレーザ加工装置が提供される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レーザ光源と、
被処理物を保持する保持手段と、
前記保持手段に対向して設けられ、前記レーザ光源からのレーザ光が導入される照射手段と、
前記保持手段と、前記照射手段と、の相対的な位置を変化させる第1の移動手段と、
前記照射手段の光軸に交差して設けられたマスクと、
前記光軸に対する前記マスクの相対的な位置を変化させる第2の移動手段と、
前記第2の移動手段を制御する制御手段と、
を備え、
前記マスクは、前記被処理物の照射対象部分の少なくとも一部分と相似形または同一形状を有し前記レーザ光の一部を透過させることで前記レーザ光のスポット形状を成形する透過部を有し、
前記照射手段は、前記成形されたスポット形状を前記照射対象部分に転写する結像光学系を有し、
前記制御手段は、前記第2の移動手段を制御することで、前記照射対象部分の形状に基づいて前記透過部の前記レーザ光が透過する位置を変化させること、を特徴とするレーザ加工装置。
IPC (4件)：
B23K 26/06
, B23K 26/00
, B23K 26/08
, G09F 9/00
B23K26/06 J
, B23K26/00 N
, B23K26/00 H
, B23K26/08 K
, G09F9/00 338
4E068AH01
, 4E068CA02
, 4E068CA08
, 4E068CB01
, 4E068CE04
, 4E068CE08
, 4E068DA09
, 4E068DA14
, 4E068DB13
, 5G435AA17
, 5G435BB05
, 5G435BB06
, 5G435BB12
, 5G435EE12
, 5G435KK05
, 5G435KK10
