特許
J-GLOBAL ID：200903078374044278
有機電界発光表示装置及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
渡邊 隆
, 志賀 正武
, 村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-153567
公開番号（公開出願番号）：特開2007-200839
出願日： 2006年06月01日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：
【課題】レーザパワーを調節してレーザビームの幅をフリット幅以上に照射してフリットが充分に溶融され得る有機電界発光表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係る有機電界発光表示装置の製造方法においては、(a)画素領域と非画素領域とに分けられた第1基板の前記画素領域に第1電極、有機薄膜層及び第2電極から成る有機電界発光素子を形成する段階と、(b)前記非画素領域と対応する第2基板の周辺部に沿ってフリットを形成する段階と、(c)前記画素領域及び非画素領域の一部と重畳されるように前記第2基板を前記第1基板の上部に配置する段階と、(d)前記第2基板の背面にレーザビームを前記フリット幅以上に照射して前記第1基板と前記第2基板とを接着させる段階と、を含む。【選択図】図1a
請求項（抜粋）：
(a)画素領域と非画素領域とに分けられた第1基板の前記画素領域に第1電極、有機薄膜層及び第2電極から成る有機電界発光素子を形成する段階と、
(b)前記非画素領域と対応する第2基板の周辺部に沿ってフリットを形成する段階と、
(c)前記画素領域及び非画素領域の一部と重畳されるように前記第2基板を前記第1基板の上部に配置する段階と、
(d)前記第2基板の背面にレーザビームを前記フリット幅以上に照射して前記第1基板と前記第2基板とを接着させる段階と、を含むことを特徴とする有機電界発光表示装置の製造方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, H01L 51/50
, H05B 33/04
H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/04
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC25
, 3K107CC45
, 3K107EE41
, 3K107EE55
, 3K107FF00
, 3K107FF15
, 3K107GG00
, 3K107GG26
