特許

J-GLOBAL ID：200903041413237754

荷電粒子ビーム描画装置

発明者： 小笠原 宗博 ,  東條 徹
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-202553
公開番号（公開出願番号）：特開2003-017394
出願日： 2001年07月03日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
要約：

【要約】【課題】 大気圧変動に伴う試料ステージの位置測定精度の低下を防止することができ、電子ビーム描画装置における描画精度の向上をはかる。【解決手段】 真空排気された試料室内に配置された試料に対し電子ビームを照射することにより、該試料上に所望のパターンを描画する電子ビーム描画装置において、試料室を内側容器11と外側容器12の二重の密閉容器構造に形成し、内側容器11と外側容器12との間の空間を一定の圧力に保持することにより、大気圧変動による力が内側容器11に加わらないようにする。

請求項（抜粋）：

真空排気された試料室内に配置された試料に対し、真空排気された荷電粒子ビーム光学鏡筒から荷電粒子ビームを照射することにより、該試料上に所望のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置であって、前記試料室及び荷電粒子ビーム光学鏡筒のうちの少なくとも試料室を二重の密閉容器構造に形成し、且つ内側容器の実質重量を支持する部分を除き外側容器と内側容器との接続部分を伸縮性の材料或いは可撓性材料で形成してなることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/16 ,  H01J 37/305

FI (4件)：

G03F 7/20 504 ,  H01J 37/16 ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 L

Fターム (5件)：

2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C034BB06 ,  5F056EA12 ,  5F056EA16