被覆物の形成方法及び被覆物

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-160074
公開番号（公開出願番号）：特開2001-335950
出願日： 2000年05月30日
公開日（公表日）： 2001年12月07日
要約：

【要約】【課題】比較的容易な手段での緻密で耐久性に優れるシリカ質セラミックス層の形成方法及びその形成方法による被覆物を提供する。【解決手段】基材上にポリシラザン又はその変成物を主成分とする塗膜形成用組成物を塗布し、硬化処理を行った後、さらに高温水で処理を行うことで、高温水処理を行わないものと比較して格段に緻密で耐久性が向上した被膜を得ることができ、またシリカ質セラミックス層の層表面付近にアンモニア等が残存しないことから、光触媒含有層が形成される際の硬化反応を妨げることがなくなる。

請求項（抜粋）：

基材上にポリシラザン又はその変成物を主成分とする塗膜形成用組成物を塗布し、硬化処理を行った後、さらに高温水で処理を行うことにより基材上にシリカ質セラミックス層を形成することを特徴とする被覆物の形成方法。

IPC (5件)：

C23C 18/12 , B05D 3/10 , B05D 7/24 302 , B32B 9/00 , C04B 41/82

FI (5件)：

C23C 18/12 , B05D 3/10 Z , B05D 7/24 302 Y , B32B 9/00 A , C04B 41/82

Fターム (50件)：

4D075AE03 , 4D075BB26Y , 4D075BB79Z , 4D075CA02 , 4D075CA03 , 4D075CA18 , 4D075CA33 , 4D075CA34 , 4D075CA37 , 4D075CA39 , 4D075DB13 , 4D075DB31 , 4D075DC01 , 4D075DC05 , 4D075DC38 , 4D075EA07 , 4D075EB42 , 4D075EC07 , 4F100AA21 , 4F100AB01A , 4F100AB04 , 4F100AD09B , 4F100AG00A , 4F100AH03B , 4F100AH06B , 4F100AK01A , 4F100AR00C , 4F100AT00A , 4F100BA03 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10C , 4F100EH46B , 4F100EJ05B , 4F100JB02 , 4F100JJ03 , 4F100JK12 , 4F100JL02 , 4F100JL06C , 4F100YY00A , 4F100YY00C , 4K022AA02 , 4K022AA03 , 4K022AA13 , 4K022AA41 , 4K022BA15 , 4K022BA20 , 4K022BA33 , 4K022DA06 , 4K022DA09

引用特許：

審査官引用 (3件)

SiO2系セラミックス被覆フィルムの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-076898 出願人：東燃株式会社
コーティング用組成物、セラミックス被膜及び被膜の製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-167962 出願人：東燃株式会社
光触媒フィルム及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-160157 出願人：大日本印刷株式会社

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