特許
J-GLOBAL ID:200903041457602336

研磨基布

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三原 秀子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-043039
公開番号(公開出願番号):特開2003-236739
出願日: 2002年02月20日
公開日(公表日): 2003年08月26日
要約:
【要約】【課題】 磁気記録媒体等の表面にテクスチャー加工等の精密研磨を行う際に、高精度の平滑性を得られる研磨基布を提供すること。【解決手段】 繊維質基材とその空隙に高分子弾性体を充填してなる複合体である基布であって、繊維質基材を構成する繊維が20本以上の極細繊維が収束してなる繊維束を構成しており、該繊維束において外周部に存在する極細繊維の平均直径が0.05〜2μmであり、かつ該基布の表面粗さが15μm以下であることを特徴とする研磨基布。さらには、該基布の表面に存在する起毛の密度が15本/mm2以下であることが好ましい。
請求項(抜粋):
繊維質基材とその空隙に高分子弾性体を充填してなる複合体である基布であって、繊維質基材を構成する繊維が20本以上の極細繊維が収束してなる繊維束を構成しており、該繊維束において外周部に存在する極細繊維の平均直径が0.05〜2μmであり、かつ該基布の表面粗さが15μm以下であることを特徴とする研磨基布。
IPC (3件):
B24B 21/00 ,  B24D 11/00 ,  D04H 1/42
FI (3件):
B24B 21/00 Z ,  B24D 11/00 Z ,  D04H 1/42 X
Fターム (19件):
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB01 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17 ,  3C063AA06 ,  3C063AB07 ,  3C063BG14 ,  3C063EE01 ,  3C063FF23 ,  4L047AA23 ,  4L047AA27 ,  4L047AB07 ,  4L047AB08 ,  4L047BA03 ,  4L047CB10 ,  4L047CC14 ,  4L047CC16 ,  4L047DA00
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 研磨布
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-290793   出願人:東レ株式会社
  • 研磨布
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-174051   出願人:東レ株式会社
  • ヌバック調人工皮革
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-288305   出願人:帝人株式会社
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