特許
J-GLOBAL ID：200903041457629625

光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置

発明者：
堀尾 智之

堀尾 智之 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 安富 康男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-237208
公開番号（公開出願番号）：特開2009-069428
出願日： 2007年09月12日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：
【課題】界面反射と干渉縞の発生を有効に抑制し、視認性に優れる光学積層体を形成するための製造方法を提供する。【解決手段】光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、重量平均分子量が200以上、1000未満である高屈折率樹脂A、重量平均分子量が1000以上、10万以下である高屈折率樹脂B、浸透性溶剤、及び、バインダー樹脂を含み、かつ、含まれる樹脂成分中における前記高屈折率樹脂Aと高屈折率樹脂Bとの合計量が10〜80質量%(固形分比)である樹脂組成物を、上記光透過性基材上に塗布して上記ハードコート層を形成する工程を有する光学積層体の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、 重量平均分子量が200以上、1000未満である高屈折率樹脂A、重量平均分子量が1000以上、10万未満である高屈折率樹脂B、浸透性溶剤、及び、バインダー樹脂を含み、かつ、含まれる樹脂成分中における前記高屈折率樹脂Aと高屈折率樹脂Bとの合計量が10〜80質量%(固形分比)である樹脂組成物を、前記光透過性基材上に塗布して前記ハードコート層を形成する工程を有する ことを特徴とする光学積層体の製造方法。
IPC (6件)：
G02B 1/11 ,  G02B 5/30 ,  G02B 1/10 ,  G02F 1/133 ,  G09F 9/00 ,  B32B 7/02
FI (6件)：
G02B1/10 A ,  G02B5/30 ,  G02B1/10 Z ,  G02F1/1335 500 ,  G09F9/00 313 ,  B32B7/02 103
Fターム (56件)：
2H049BA02 ,  2H049BB65 ,  2H049BB67 ,  2H049BC22 ,  2H091FA32 ,  2H091FA37 ,  2H091FB02 ,  2H091FB13 ,  2H091FD06 ,  2H091KA01 ,  2H091LA21 ,  2H191FA40X ,  2H191FA40Y ,  2H191FA40Z ,  2H191FA42X ,  2H191FA42Y ,  2H191FA42Z ,  2H191FB02 ,  2H191FB23 ,  2H191FD07 ,  2H191KA01 ,  2H191LA28 ,  2K009AA02 ,  2K009AA15 ,  2K009BB28 ,  2K009CC03 ,  2K009CC21 ,  2K009EE03 ,  2K009EE05 ,  4F100AA17B ,  4F100AJ06A ,  4F100AK01B ,  4F100AR00C ,  4F100AS00B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100CA22B ,  4F100EH46B ,  4F100GB41 ,  4F100JA07B ,  4F100JG03C ,  4F100JN01A ,  4F100JN18B ,  4F100YY00B ,  5G435AA01 ,  5G435BB02 ,  5G435BB05 ,  5G435BB06 ,  5G435BB12 ,  5G435DD12 ,  5G435FF05 ,  5G435GG32 ,  5G435HH03 ,  5G435KK07
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (7件)
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