特許
J-GLOBAL ID：200903041529701695
レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田 幹雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-249037
公開番号（公開出願番号）：特開平10-048828
出願日： 1996年08月30日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：
【要約】【課題】 レジスト組成物を提供する。【解決手段】 レジスト組成物は、その側鎖の特定部分にt-ブチル基またはテトラヒドロピラニル基が二つずつ形成されたベース樹脂を含んむことによって露光前・後の溶解度の差が大きい上に熱的特性にも優れている。これによって、本発明のレジスト組成物は、高集積の半導体チップを製造するためのリソグラフィー工程に好適である。
請求項（抜粋）：
下記式(I)【化1】(ここで、R1 はt-ブチル基またはテトラヒドロピラニル基であり、kは20ないし500である。)で表示され重量平均分子量が5000ないし200000であるベース樹脂および該ベース樹脂に対して1ないし20重量%の光反応性酸発生剤を含むことを特徴とするレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/30 502 R
